Новини

Новини

Ми раді ділитися з вами результатами нашої роботи, новинами компанії, вчасно повідомляти про події та умови призначення та звільнення персоналу.
Характеристики кремнієвої епітаксії20 2024-06

Характеристики кремнієвої епітаксії

Висока чистота: епітаксіальний шар кремнію, вирощений за допомогою хімічного осадження пари (ССЗ), має надзвичайно високу чистоту, кращу площину поверхні та нижчу щільність дефектів, ніж традиційні вафлі.
Використання твердого карбіду кремнію20 2024-06

Використання твердого карбіду кремнію

Карбід твердого кремнію (SIC) став одним із ключових матеріалів у виробництві напівпровідників завдяки його унікальними фізичними властивостями. Далі наведено аналіз його переваг та практичної цінності на основі його фізичних властивостей та конкретних застосувань у напівпровідниковому обладнанні (наприклад, носіїв вафель, душові головки, обрізання фокусних кілець тощо).
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept