Вафельна підкладка - це пластина, виготовлена з напівпровідникового монокристалічного матеріалу. Субстрат може безпосередньо входити в процес виготовлення пластин для виробництва напівпровідникових пристроїв, або він може бути оброблений епітаксіальним процесом для отримання епітаксійних пластин.
Вафельна підкладка, як основна опорна структура напівпровідникових приладів, безпосередньо впливає на продуктивність і стабільність пристроїв. Як «основа» для виробництва напівпровідникових пристроїв, серія виробничих процесів, таких як вирощування тонкої плівки та літографія, повинна бути виконана на підкладці.
Короткий опис типів підкладок
- Монокристалічна кремнієва пластина: на даний момент найпоширеніший матеріал підкладки, який широко використовується у виробництві інтегральних схем (ІС), мікропроцесорів, пам’яті, пристроїв MEMS, пристроїв живлення тощо;
- Підкладка SOI: використовується для високопродуктивних малопотужних інтегральних схем, таких як високочастотні аналогові та цифрові схеми, радіочастотні пристрої та мікросхеми керування живленням;
- Складні напівпровідникові підкладки: підкладка з арсеніду галію (GaAs): мікрохвильові та міліметрові пристрої зв’язку тощо. Підкладка з нітриду галію (GaN): використовується для радіочастотних підсилювачів потужності, HEMT тощо. Підкладка з карбіду кремнію (SiC): використовується для електромобілів, перетворювачів енергії та інших пристроїв живлення. Підкладка з фосфіду індію (InP): використовується для лазерів, фотоприймачі та ін.;
- Сапфірова підкладка: використовується для виробництва світлодіодів, RFIC (радіочастотна інтегральна схема) тощо;
Vetek Semiconductor є професійним постачальником підкладок SiC і SOI у Китаї. Наша напівізоляційна підкладка SiC 4H і SiC напівізоляційного типу 4H широко використовуються в ключових компонентах обладнання для виробництва напівпровідників.
Vetek Semiconductor прагне надавати вдосконалені та настроювані продукти для пластинчастої підкладки та технічні рішення з різними специфікаціями для напівпровідникової промисловості. Ми щиро сподіваємось стати вашим постачальником у Китаї.
Ключові характеристики
- Професійний постачальник підкладок SiC (4H N-типу та напівізоляційних) і підкладок SOI для силових, радіочастотних і передових ІС.
- Широке портфоліо підкладок, що охоплює кремній, складні напівпровідники (SiC, GaN, GaAs, InP), сапфір і спеціальні пластини (PZT, SiN, фіктивні пластини).
- Висока якість матеріалів і узгодженість процесу, придатні для епітаксійного росту, виготовлення пристроїв і контролю процесу обладнання.
- Настроювані специфікації та технічні рішення, адаптовані до різних вимог до виробництва напівпровідників.
- Надійне постачання в Китаї з інженерною підтримкою додатків для силових пристроїв, MEMS, світлодіодних, радіочастотних і термічних інструментів.
Категорії продуктів
- Підкладки SiC: 4H N-типу та напівізоляційні пластини SiC для силових пристроїв і радіочастотних застосувань
- Підкладки SOI: кремнієві пластини на ізоляторі для високопродуктивних малопотужних мікросхем і радіочастотних пристроїв
- Спеціальні/технологічні пластини: фіктивні пластини з CVD SiC покриттям, підкладки SiN, п’єзоелектричні пластини PZT на Si/SOI
- Інші складові/сапфірові підкладки: підтримка світлодіодних, радіочастотних та оптоелектронних додатків (як зазначено в огляді)
Додатки
Щоб задовольнити різноманітні потреби виробництва напівпровідників, VeTek пропонує цільову продукцію Wafer Substrate. У наступній таблиці їх класифіковано за основними сферами застосування:
| Поле застосування |
Типові продукти |
Опис програми |
| Силові пристрої та електромобілі |
Підкладки 4H-SiC (тип N / напівізоляційні) |
Підкладки з карбіду кремнію для перетворювачів електроенергії, електромобілів і силових пристроїв високої напруги, які потребують високої температури та високої ефективності. |
| ВЧ / високочастотні мікросхеми |
Підкладки SOI, підкладки, пов’язані з GaN / GaAs, напівізоляційний SiC |
Високопродуктивні підкладки з низьким енергоспоживанням для радіочастотних пристроїв, підсилювачів потужності, HEMT і високочастотних аналогових/цифрових схем. |
| MEMS і датчики |
П'єзоелектричні пластини PZT (PZT на Si/SOI), підкладки SiN |
П’єзоелектричні та високоміцні підкладки для перетворювачів MEMS, датчиків, 5G, медичних і переносних пристроїв, що потребують електромеханічного перетворення. |
| Контроль процесів і тестування |
Фіктивна пластина з покриттям CVD SiC |
Муляжі та тестові пластини для кваліфікації обладнання, моніторингу процесу та контролю забруднення на лініях виробництва напівпровідників. |
| Світлодіод / Оптоелектроніка |
Сапфірові підкладки, складні напівпровідникові підкладки (InP тощо) |
Підкладки для виробництва світлодіодів, лазерів, фотодетекторів і RFIC-пристроїв, які потребують оптичних і високочастотних характеристик. |
| Advanced IC / Logic & Memory |
Монокристалічні кремнієві пластини, підкладки КНІ |
Стандартні та вдосконалені підкладки для інтегральних схем, мікропроцесорів, пам’яті та чіпів керування живленням. |
Щоб отримати докладніші рішення щодо відповідності процесу, зверніться доЕпітаксія з карбіду кремніюіКремнієва епітаксіяпов'язані сторінки.
Як професійний виробник та постачальник вафель у Китаї, ми маємо власну фабрику. Незалежно від того, чи потрібні вам індивідуальні послуги для задоволення конкретних потреб вашого регіону, чи ви бажаєте придбати вдосконалену та міцну пластину, виготовлену в Китаї, ви можетезалиште нам повідомлення.
