Служба підтримки

VeTek Semiconductor постачає високоякісні монокристалічні пластини з нітриду алюмінію (AlN) і підкладки для надширокозонних напівпровідникових пристроїв нового покоління. Завдяки надширокій забороненій зоні приблизно 6,2 еВ, видатній теплопровідності, винятковій електроізоляції та чудовому збігу решітки та теплового розширення з GaN пластини AlN ідеально підходять для високопотужних радіочастотних пристроїв, високовольтної силової електроніки та оптоелектроніки глибокого ультрафіолету (DUV).

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts — це спеціалізована технічна послуга, розроблена для токоприймачів обладнання Aixtron / Veeco MOCVD і графітових компонентів, які використовуються в епітаксіальних процесах GaN / AlN / AlGaN. Наш запатентований процес очищення ретельно усуває ефект пам’яті поверхні, відновлює стабільний потік газу в реакторі та суворо захищає 100 мкм CVD SiC покриття з абсолютною нульовою втратою товщини та нульовим залишком металу.

Оскільки попит на високочутливі та малопотужні перетворювачі MEMS зростає разом із розширенням комунікацій 5G, точних медичних пристроїв і розумних носіїв, наші пластини PZT на Si/SOI забезпечують важливе рішення для матеріалів. Використовуючи вдосконалені процеси осадження тонких плівок, такі як золь-гель або напилення, ми досягаємо виняткової послідовності та чудових п’єзоелектричних характеристик на кремнієвих підкладках. Ці пластини служать основним ядром для електромеханічного перетворення енергії.

Вирощування кристалів карбіду кремнію є основним процесом у виробництві високоефективних напівпровідникових пристроїв. Стабільність, точність і сумісність обладнання для вирощування кристалів безпосередньо визначають якість і вихід злитків карбіду кремнію. Базуючись на характеристиках технології фізичного транспортування парів (PVT), Veteksemi розробила резистивну нагрівальну піч для вирощування кристалів карбіду кремнію, що забезпечує стабільне вирощування 6-дюймових, 8-дюймових і 12-дюймових кристалів карбіду кремнію з повною сумісністю з провідними, напівізоляційними та системами матеріалів N-типу. Завдяки точному контролю температури, тиску та потужності він ефективно зменшує дефекти кристалів, такі як EPD (Etch Pit Density) і BPD (Basal Plane Dislocation), водночас демонструючи низьке енергоспоживання та компактну конструкцію, що відповідає високим стандартам промислового великомасштабного виробництва.

Полірувальна суспензія CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) — це високоефективний матеріал, який використовується у виробництві напівпровідників і точній обробці матеріалів. Його основною функцією є досягнення тонкої площинності та полірування поверхні матеріалу під синергетичним ефектом хімічної корозії та механічного шліфування для задоволення вимог рівності та якості поверхні на нанорівні. Чекаємо на подальшу консультацію.

Як провідні китайські виробники та постачальників вафельних вафель, напівпровідникові пластини CVD SIC SIC SIC - це спеціалізований інструмент у виробництві напівпровідників, в основному використовується для тестування тестування кремнію та тестування вафель. Ваші подальші запити вітаються.