CVD TAC покриття тигель

Сприцептор обертання покриття TAC відіграє ключову роль у процесах осадження високої температури, таких як CVD та MBE, і є важливим компонентом для обробки вафель у виробництві напівпровідників. Серед них,TAC покриттямає чудову високотемпературну стійкість, корозійну стійкість та хімічну стійкість, що забезпечує високу точність та високу якість під час обробки вафель.

CVD TAC покриття тигель, як правило, складається з покриття TAC іграфітсубстрат. Серед них TAC - це керамічний матеріал високої точки плавлення з точкою плавлення до 3880 ° C. Він має надзвичайно високу твердість (твердість Вікерса до 2000 ГВ), хімічна резистентність до корозії та сильна стійкість до окислення. Тому покриття TAC є чудовим стійким до високотемпературного матеріалу в напівпровідниковій технології обробки.

Графітова підкладка має хорошу теплопровідність (теплопровідність становить приблизно 21 мас/м · k) та відмінна механічна стабільність. Ця характеристика визначає, що графіт стає ідеальним покриттямсубстрат.

CVD TAC COANT CRUCIBLE в основному використовується в наступних технологіях напівпровідникової обробки:

Виробництво вафель: Vetek напівпровідник CVD TAC -покриття Crucible має відмінну високотемпературну стійкість (точка плавлення до 3880 ° C) та резистентність до корозії, тому його часто використовують у ключових процесах виробництва пластини, таких як високотемпературне осадження пари (СВД) та епітаксіальний ріст. У поєднанні з відмінною конструкційною стабільністю продукту в надвисоких температурних середовищах це забезпечує, щоб обладнання може працювати стабільно тривалий час у надзвичайно суворих умовах, тим самим ефективно підвищуючи ефективність виробництва та якість вафель.

Процес епітаксіального росту: В епітаксіальних процесах, таких якХімічне осадження пари (CVD)та молекулярна епітаксія променя (MBE), CVD TAC Coating Crucible відіграє ключову роль у перенесенні. Його покриття TAC може не тільки підтримувати високу чистоту матеріалу в екстремальній температурі та корозійній атмосфері, але й ефективно запобігти забрудненню реагентів на матеріал та корозію реактора, забезпечуючи точність виробничого процесу та узгодженості продукту.

Оскільки провідний виробник та лідер Китаю CVD TAC Cuting Crucible, Vetek Semiconductor може надавати індивідуальні продукти та технічні послуги відповідно до вашого обладнання та потреб у процесі. Ми щиро сподіваємось стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Танталум карбіду (TAC) покриття на мікроскопічному поперечному перерізі：

Фізичні властивості покриття TAC：

Це напівпровідник CVD TAC COANT CLOTIG CRUCIBLE МАГАЗИНИ: