Ald Superior

Як професіоналAld SuperiorВиробник у Китаї, наш продуктAld SuperiorТочне контроль температури, рівномірний розподіл газу та відмінна теплопровідність та інші характеристики продукту визначають, що визначаютьAld SuperiorВідіграє вирішальну роль у процесі осадження атомного шару (ALD). Важлива роль, вітайте консультації.

Рівномірне тонке осадження плівки: Сприцептор ALD забезпечує рівномірне осадження атомних шарів на всю поверхню вафель під час процесу осадження атомного шару (ALD). Його унікальна конструкція, що обертається, дозволяє газам та реагентам рівномірно контактувати з поверхнею вафель, що призводить до рівномірної товщини плівки. Це важливо для високоточного напівпровідникового виробництва.

Покращити якість осадження: Оптимізуючи контроль температури та розподіл газу, чуткет ALD значно покращує якість та продуктивність плівки, зменшуючи дефекти та нерівномірність. Це робить його ідеальним для високоточного напівпровідникового та електронного виготовлення пристроїв, що забезпечує надійність та продуктивність продукції.

Підтримує багатопудерна обробка: Окремі конструкції чутливих ALD дозволяють одночасно обробляти кілька вафель, підвищуючи ефективність виробництва. Це особливо важливо для високопропускних виробничих умов, здатних задовольнити потреби масштабного виробництва.

Вміщує різні розміри та типи вафель: Вірусери ALD, як правило, розроблені для високої сумісності і можуть підтримувати різні розміри та типи вафель. Це робить його ефективним у різних виробничих процесах, забезпечуючи більшу гнучкість та пристосованість.

Зменшити виробничі витрати: Завдяки своєму ефективному розподілу газу та рівномірним нагрівальним можливостям, сприйнятливий ALD збільшує ефективність процесу осадження, тим самим зменшуючи матеріальні відходи та виробничі витрати. Це не тільки сприяє підвищенню ефективності виробництва, але й значно знижує виробничі витрати.

Основні фізичні властивості покриття CVD SIC:

Виробничі магазини:

Огляд напівпровідникового ланцюга епітакси：