Токоприймач з покриттям з карбіду танталу (TaC) CVD

Ключові характеристики

Додатки

Типові програми включають:

• Епітаксійне зростання SiC

• GaN MOCVD епітаксія

• Епітаксіальне зростання AlN

• Виробництво напівпровідників третього покоління

• Потужна електроніка

• радіочастотні пристрої

• Виробництво MicroLED

• Дослідницькі та дослідно-виробничі системи

Сумісне обладнання

Сумісні платформи:

• Aixtron

• ЛПЕ

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Спеціальні реактори CVD і MOCVD

Також доступні:

• Носії для вафель

• Планетарні суцептори

• Стовбурні фіксатори

• Обертальні диски

• Частини півмісяця

• Накривки

• Графітові збірки

• Спеціальні компоненти теплового поля

Технічні характеристики

Часті запитання

1. Що таке CVD TaC-суцептор?

Графітовий компонент високої чистоти, захищений щільним покриттям CVD TaC, який використовується як носій пластини під час епітаксійного росту.

2. Навіщо використовувати TaC coaзамість покриття SiC?

TaC забезпечує вищу термостійкість, чудову хімічну стабільність і довший термін служби.

3.Які напівпровідникові процеси використовують TaC-cвівсяні рецептори?

SiC епітаксія, GaN MOCVD, AlN епітаксія та інші високотемпературні процеси росту кристалів.

4. Чи може VETEK виготовляти індивідуальні чутливі пристрої?

так Ми пропонуємо індивідуальні проекти на основі креслень замовника та вимог процесу.

5. Які марки реакторів підтримуються?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare та інші основні системи.