Кварцова пічна труба для дифузійної печі

1. Основні характеристики та переваги

• Дегідроксильований плавлений кварц надвисокої чистоти (SiO₂ ≥ 99,999%) з металевими домішками, контрольованими на рівнях ppb, і надзвичайно низьким вмістом гідроксилу

• Тривала робоча температура до 1100 °C; короткочасний пік стійкості до 1200 °C

• Відмінна стійкість до термічного удару після відпалу для повного зняття напруги — стійкість до розтріскування при різких змінах температури

• Видатна хімічна інертність до окисних, відновних і галогеновмісних технологічних газів; підходить для плазми та корозійної атмосфери

• Дуже низьке вакуумне виділення газів; гладка внутрішня стінка мінімізує накопичення побічних продуктів і підтримує повторюваність процесу

• Цільне формування з однаковою товщиною стінки, високою коаксіальністю та прецизійною обробкою кінців для надійного ущільнення

• Настроювані конструкції: прямі труби, редукторні труби, фланцеві труби, збільшені довжини та спеціальні кінцеві конфігурації для вертикальних або горизонтальних печей

2. Типові програми

Труби кварцової печі VeTek широко використовуються як реакційна камера основної зони в:

• Печі термічного окислення (сухе/мокре окислення)

• Дифузійні печі для введення легуючих добавок (B, P, As та ін.)

• Системи LPCVD для осадження тонких плівок

• Вакуумний відпал та інші процеси високотемпературної термічної обробки

• Сумісність із 4-дюймовими, 6-дюймовими, 8- та 12-дюймовими пластинчастими платформами (Si, SiC, GaN, сапфірові підкладки)

Вони підтримують лінії виробництва логіки, пам’яті, пристроїв живлення, мікроконтролерів, світлодіодів, MEMS і широкозонних напівпровідників, які вимагають стабільної рівномірності температури, контролю потоку газу та надчистого технологічного середовища.

3. Основні технічні параметри

• Матеріал: напівпровідниковий дегідроксильований плавлений кварц (SiO₂ ≥ 99,999%), низький рівень гідроксилу, низький вміст металевих домішок

• Сумісність з пластинами: 4 / 6 / 8 / 12 дюймів

• Тривала робоча температура: від −20 °C до 1100 °C; короткочасний пік до 1200 °C

• Процес: цільне термічне формування, гомогенізація стінок, кінцева обробка, відпал для зняття напруги, тест на витік гелієм, ультрачисте очищення

• Доступні конструкції: пряма труба, перехідна труба, фланцева труба, подовжена / нестандартна довжина труби, спеціальні конфігурації кінців

• Налаштування: внутрішній/зовнішній діаметр, довжина, товщина стінки, характеристики фланців і спеціальні геометрії за кресленнями клієнта

4. Чому варто вибрати кварцові труби VeTek?

Як професійний виробник напівпровідникових кварцових компонентів, VeTek Semiconductor пропонує:

• Кварцові труби високої чистоти, розроблені для окислення, дифузії, LPCVD та обладнання для відпалу

• Суворий контроль чистоти, точність розмірів і чистота, придатні для виробництва чистих приміщень класу 10 / класу 100

• Повне налаштування та OEM-сумісні конструкції для вертикальних і горизонтальних трубчастих печей

• Додаткові напівпровідникові кварцові продукти, включаючи пластинчасті пластини, тиглі, вкладиші та інші компоненти процесу

Наші кварцові труби для печей допомагають підтримувати стабільні умови тепла та газового потоку, мінімізувати забруднення частинками та металами та подовжувати термін служби при безперервному високотемпературному циклі, підтримуючи вищий вихід і нижчу вартість володіння при термічній обробці напівпровідників.