Власник вафельних вафель

VВласник пластини Etek Semiconductor зазвичай використовується для виправлення та підтримки вафель під час напівпровідникової обробки. Це високопродуктивнавафельна носіяШироко використовується у виробництві напівпровідників. Покриваючи шар карбіду кремнію (sic) на поверхнісубстрат, Продукт може ефективно запобігти корозії субстрату та поліпшити резистентність до корозії та механічну міцність носія вафель, забезпечуючи стабільність та точні вимоги процесу обробки.

Власник вафельної пластини SICЗазвичай використовується для виправлення та підтримки вафель під час напівпровідникової обробки. Це високопродуктивний вафельний носій, що широко використовується у виробництві напівпровідників. Покриваючи шаркарбід кремнію (sic)На поверхні підкладки продукт може ефективно запобігти корозійній підкладці та покращити резистентність до корозії та механічну міцністьПафер -носій, забезпечення стабільності та точних вимог процесу обробки.

Карбід кремнію (SIC) має температуру плавлення близько 2730 ° C і має чудову теплопровідність близько 120 - 180 Вт/м · k. Ця властивість може швидко розсіювати тепло у високотемпературних процесах і запобігти перегріву між вафельною та носієм. Тому тримач вафельної пластини SIC зазвичай використовує графіт з покриттям кремнію (SIC) як субстрат.

У поєднанні з надзвичайно високою твердістю SIC (твердість Віккерса близько 2500 ХВ), кремнієвий карбід (SIC) покриття, осаджене процесом ССЗ, може утворювати щільне і сильне захисне покриття, що значно покращує стійкість до зносу, що покривало вафеля.

Власник пластини Vitek Semiconductor виготовлений з графіту з покриттям SIC і є необхідним ключовим компонентом у сучасних напівпровідникових процесах епітакси. Він спритно поєднує чудову теплопровідність графіту (теплопровідність становить приблизно 100-400 Вт/м · К при кімнатній температурі) та механічна міцність, а також відмінна хімічна корозійна стійкість та термічна стійкість карбіду кремнію (точка плавлення SIC становить близько 2730 ° C), що ідеально відповідає суворим вимогам сьогоднішнього виробничого середовища Semiconductor.

Цей власник дизайну одноразового забезпечення може точно контролюватиепітаксіальний процесПараметри, які допомагають виробляти високоякісні напівпровідникові пристрої. Його унікальна структурна конструкція гарантує, що вафля обробляється з найбільшою допомогою та точністю протягом усього процесу, тим самим забезпечуючи відмінну якість епітаксіального шару та покращуючи продуктивність остаточного напівпровідникового продукту.

Як провідний КитайSic покритийВиробник та лідер WAFER, Vetek Semiconductor може надавати індивідуальні продукти та технічні послуги відповідно до вашого обладнання та вимог до процесу.Ми щиро сподіваємось бути вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Дані SEM щодо структури кристала плівки CVD SIC

Основні фізичні властивості покриття CVD SIC

Ветек напівпровідник SIC з покриттям Власників