Покриття з карбіду кремнію

Ласкаво просимо до Vetek Semiconductor, вашого надійного виробника CVD SIC покриттів. Ми пишаємося тим, що пропонуємо верхній колектор покриття Aixtron SIC, який вміло розробляється за допомогою графіту високої чистоти та має сучасне покриття CVD SIC з домішкою нижче 5ppm. Будь ласка, не соромтеся звертатися до нас з будь -якими питаннями чи запитами

З нашим досвідом у виробництві покриття CVD SIC, Vetek Semiconductor з гордістю представляє Aixtron SIC Collector DOOBER, CENTER та TOP. Ці дно колекторів покриття SIC побудовано за допомогою графіту високої чистоти і покриті CVD SIC, забезпечуючи домішку нижче 5ppm. Не соромтеся звертатися до нас за додатковою інформацією та запитами.

У Semiconductor Vetek ми спеціалізуємось на дослідженні, розробці та індустріалізації покриття CVD SIC та покриття CVD TAC. Одним із зразкових продуктів є внутрішні сегменти покриття SIC, які проходять широку обробку для досягнення дуже точної та щільно покритої поверхні CVD SIC. Це покриття демонструє виняткову стійкість до високих температур і забезпечує надійний захист від корозії. Не соромтеся зв’язуватися з нами для будь -яких запитів.

VTech Semiconductor зобов’язаний розробити та комерціалізувати деталі, покриті CVD SIC для реакторів Aixtron. Наприклад, наші сегменти покриття SIC були ретельно оброблені для отримання щільного CVD SIC з чудовою резистентністю до корозії, хімічною стабільністю, ласкаво просимо для обговорення з нами сценаріями застосування.

Сприцептор MOCVD характеризується планетарним диком та професійним для його стабільної ефективності в епітаксі. Vetek Semiconductor має багатий досвід обробки та CVD SIC цього продукту, ласкаво просимо спілкуватися з нами про реальні випадки.

Кільце попереднього нагрівання використовується в процесі напівпровідникової епітаксії для попереднього нагрівання пластин і підвищення стабільності та рівномірності температури пластин, що має велике значення для високоякісного нарощування епітаксійних шарів. Vetek Semiconductor суворо контролює чистоту цього продукту, щоб запобігти випаровуванню домішок при високих температурах. Ласкаво просимо до подальшого обговорення з нами.