Лоток для вафельних носіїв

Ви можете бути впевнені, що купують лоток для вафельних перевізників з нашої фабрики.

Vetek semiconductor в основному постачає графітові деталі з покриттям CVD SiC, такі як лоток для пластин для напівпровідникового обладнання третього покоління SiC-CVD, і займається забезпеченням передового та конкурентоспроможного виробничого обладнання для галузі. Обладнання SiC-CVD використовується для вирощування однорідного монокристалічного тонкоплівкового епітаксійного шару на підкладці з карбіду кремнію, епітаксіальний лист SiC в основному використовується для виробництва силових пристроїв, таких як діод Шотткі, IGBT, MOSFET та інші електронні пристрої.

Обладнання тісно поєднує в собі процес та обладнання. Обладнання SIC-CVD має очевидні переваги високої виробничої потужності, сумісність 6/8 дюймів, конкурентні витрати, безперервний автоматичний контроль росту для декількох печей, низька швидкість дефектів, зручність обслуговування та надійність за допомогою проектування температурного контролю поля та контролю поля потоку. У поєднанні з підносом для вафельних верстатів SIC, забезпеченим нашим напівпровідником Vetek, він може підвищити ефективність виробництва обладнання, продовжити життя та контролювати вартість.

Напівпровідниковий лоток для пластин Vetek переважно має високу чистоту, гарну стабільність графіту, високу точність обробки, а також покриття CVD SiC, стабільність при високій температурі: покриття з карбіду кремнію мають відмінну високотемпературну стабільність і захищають підкладку від теплової та хімічної корозії в середовищах із надзвичайно високою температурою. .

Твердість та зношування: кремнієві покриття зазвичай мають високу твердість, забезпечуючи відмінну стійкість до зносу та продовжуючи термін служби підкладки.

Стійкість до корозії: покриття з карбіду кремнію є стійким до корозії до багатьох хімічних речовин і може захистити підкладку від пошкоджень корозією.

Знижений коефіцієнт тертя: покриття з карбіду кремнію зазвичай мають низький коефіцієнт тертя, що може зменшити втрати на тертя та підвищити ефективність роботи компонентів.

Теплопровідність: покриття з карбіду кремнію зазвичай має хорошу теплопровідність, що може допомогти підкладці краще розсіювати тепло та покращувати ефект розсіювання тепла компонентів.

Загалом, CVD покриття з карбіду кремнію може забезпечити багаторазовий захист підкладки, подовжити термін її служби та покращити її продуктивність.

Основні фізичні властивості покриття CVD SiC:

Виробничі магазини:

Огляд мережі індустрії епітаксії напівпровідникових мікросхем: