Власник вафельних покриття кремнію

Власник вафельних кремнію (SIC) є важливим компонентом у виробництві напівпровідників, спеціально розробленим для надклічених високотемпературних процесів, таких як MOCVD (металеве органічне хімічне осадження пари), LPCVD, PECVD та термічне посилення. Інтегруючи щільну та уніформуCVD SIC покриттяНа надійному графітному або керамічному підкладці цей носій вафель забезпечує як механічну стабільність, так і хімічну інертність при суворих середовищах.

Ⅰ. Основна функція в напівпровідниковій обробці

При виготовленні напівпровідника власники вафель відіграють ключову роль у забезпеченні надійно підтримки, рівномірно нагріваються та захищені під час осадження або термічної обробки. Покриття SIC забезпечує інертний бар'єр між базовим субстратом та технологічним середовищем, ефективно мінімізуючи забруднення частинок та перевершення, які мають вирішальне значення для досягнення високого виходу пристроїв та надійності.

Ключові програми включають:

● Епітаксіальний ріст (SIC, GAN, GAAS)

● Теплове окислення та дифузія

● Високотемпературне відпал (> 1200 ° C)

● Передача та підтримка вафель під час вакуумних та плазмових процесів

Ⅱ. Вищі фізичні характеристики

Ці параметри демонструють здатність тримача вафельних виробників підтримувати стабільність продуктивності навіть під суворими процесами процесу, що робить його ідеальним для виготовлення пристроїв нового покоління.

Ⅲ. Процесний робочий процес-покроковий сценарій програми

ВізьмемоЕпітаксія mocvdЯк типовий сценарій процесу для ілюстрації використання:

1. Розміщення вафель: Силіконова, Ган або SIC вафля акуратно розміщується на вафельному чутливому для SIC.

2. Камерне нагрівання: Камера швидко нагрівається до високих температур (~ 1000–1600 ° C). SIC покриття забезпечує ефективну термічну провідність та стабільність поверхні.

3. Введення попередника: Металоорганічні попередники потрапляють у камеру. Покриття SIC протистоїть хімічних атак і запобігає виходу з підкладки.

4. Зростання епітаксіального шару: Рівномірні шари осаджуються без забруднення або теплової дистоРіка, завдяки чудовій квартирі та хімічній інертності власника.

5. Охолоджуйте та видобуток: Після обробки тримач дозволяє безпечний тепловий перехід та пошук вафель без проливання частинок.

Підтримуючи розмірну стабільність, хімічну чистоту та механічну міцність, вафельна пластина SIC значно покращує вихід процесу та скорочує час простою інструменту.

CVD SIC плівкова структура:

Склад продуктів Viteksemicon: