Сусцептор із покриттям CVD TaC

Визначення та склад продукту

VETEK CVD TaC Coated Susceptor — висококласний компонент-носій пластини, який спеціально використовується для епітаксійної обробки напівпровідників третього покоління (SiC, GaN, AlN). Цей продукт поєднує в собі фізичні переваги двох високоефективних матеріалів:

Графітова підкладка високої чистоти: Використовує процес ізостатичного пресування, щоб гарантувати, що підкладка має чудову структурну міцність, високу щільність і стабільність при термічній обробці.

CVD TaC покриття: Щільний захисний шар з карбіду танталу (TaC) без стресів створено на поверхні графіту за допомогою передової технології хімічного осадження з парової фази (CVD).

Основні технічні переваги: ​​Надзвичайна адаптивність до екстремальних умов

У процесі MOCVD покриття TaC є не лише фізичним захисним шаром, але й основою для забезпечення повторюваності процесу:

Стійкість до екстремально високих температур: TaC має температуру плавлення до 3880°C, зберігаючи чудову стабільність форми навіть у надвисокотемпературних епітаксіальних процесах понад 1600°C.

Чудова стійкість до корозії: У сильних відновних середовищах, що містять NH₃(аміак) або H₂(водень), швидкість корозії TaC надзвичайно низька, що ефективно запобігає втраті субстрату та випаданню домішок.

Гарантія надвисокої чистоти: Чистота покриття досягає 99,9995%. Його щільна структура повністю закриває мікропори графіту, забезпечуючи надзвичайно низький рівень забруднення епітаксіальної плівки.

Точний розподіл теплового поля: оптимізована технологія керування покриттям VETEK забезпечує контроль різниці температури поверхні датчика в межах ±2°C, значно покращуючи товщину та постійність довжини хвилі епітаксійного шару пластини.

Технічні параметри

Покриття з карбіду танталу (TaC) на мікроскопічному перерізі:

Основні сфери застосування

SiC (карбід кремнію) епітаксійне зростання: підтримує виробництво 6-дюймових, 8-дюймових і більших пристроїв живлення з SiC.

Пристрої на основі нітриду галію: Використовується в процесах MOCVD для світлодіодів високої яскравості, пристроїв живлення HEMT і радіочастотних мікросхем.

AlN (нітрид алюмінію) та UVC зростання: Забезпечує надзвичайно високотемпературні (1400°C+) носії для матеріалів із надширокою забороненою зоною, таких як світлодіоди Deep UV.

Індивідуальна підтримка досліджень: Адаптація до потреб науково-дослідних інститутів у налаштуванні різних нестандартних деталей і дисків із кількома отворами.

Сумісні моделі та послуги з налаштування

VETEK володіє можливостями точної механічної обробки та нанесення покриттів, ідеально адаптуючись до глобального масового обладнання MOCVD:

AIXTRON: підтримує різні планетарні диски та основи.

Veeco: Підтримує K465i, Propel та інші серії вертикальних опор.

AMEC та інші: Надає повністю сумісні запасні частини або рішення для оновлення.