Процес травлення ICP/PSS

VeTek Semiconductor ICPPSS (індуктивно пов’язана плазмова фоторезистна обробка) Etching Wafer Carrier спеціально розроблена для задоволення високих вимог процесів травлення в напівпровідниковій промисловості. Завдяки розширеним функціям він забезпечує оптимальну продуктивність, ефективність і надійність протягом усього процесу травлення.

Перевага VeTek Semiconductor ICP/PSS Etching Process Susveptors:

Покращена хімічна сумісність: пластинчастий носій виготовлено з матеріалів, які демонструють чудову хімічну сумісність із хімічними речовинами процесу травлення. Це забезпечує сумісність із широким спектром травників, засобів для зняття резисту та очисних розчинів, мінімізуючи ризик хімічних реакцій або забруднення.

Стійкість до високих температур: носій для пластин розроблений таким чином, щоб витримувати високі температури, що виникають під час процесу травлення. Він зберігає свою структурну цілісність і механічну міцність, запобігаючи деформації або пошкодженню навіть за екстремальних температурних умов.

Чудова рівномірність травлення: носій має точно розроблену конструкцію, яка сприяє рівномірному розподілу травильних речовин і газів по поверхні пластини. Це призводить до сталої швидкості травлення та високоякісних рівномірних візерунків, необхідних для досягнення точних і надійних результатів травлення.

Відмінна стабільність пластини: носій містить надійний механізм утримування пластини, який забезпечує стабільне положення та запобігає переміщенню чи ковзанню пластини під час процесу травлення. Це гарантує точні та повторювані візерунки травлення, мінімізуючи дефекти та втрати продуктивності.

Сумісність із чистими приміщеннями: пластинчастий носій розроблений відповідно до суворих стандартів чистих приміщень. Він відрізняється низьким утворенням частинок і відмінною чистотою, запобігаючи будь-якому забрудненню частинками, яке може поставити під загрозу якість і продуктивність процесу травлення. Домішки нижче 5 частин на мільйон.

Міцна та довговічна конструкція: переноска виготовлена ​​з використанням високоякісних матеріалів, відомих своєю міцністю та тривалим терміном служби. Він може витримувати багаторазове використання та суворі процеси очищення без шкоди для його продуктивності чи структурної цілісності.

Настроюваний дизайн: ми пропонуємо настроювані параметри для задоволення конкретних вимог клієнтів. Носій може бути адаптований для розміщення пластин різних розмірів, товщини та специфікацій процесу, забезпечуючи сумісність із різним обладнанням і процесами травлення.

Відчуйте надійність і продуктивність нашого ICP/PSS Etching Process Wafer Carrier, розробленого для оптимізації процесу травлення в напівпровідниковій промисловості. Його покращена хімічна сумісність, стійкість до високих температур, чудова однорідність травлення, відмінна стабільність пластин, сумісність із чистими приміщеннями, міцна конструкція та настроюваний дизайн роблять його ідеальним вибором для ваших застосувань травлення.

Пластина для травлення PSS Пластина для травлення ICP ICP Etching Suceptor