Веб-меню

Пошук продукту

Мова

Продукти
Пластина для травлення PSS для напівпровідника
  • Пластина для травлення PSS для напівпровідникаПластина для травлення PSS для напівпровідника
  • Пластина для травлення PSS для напівпровідникаПластина для травлення PSS для напівпровідника

Пластина для травлення PSS для напівпровідника

Пластина для травлення PSS Semiconductor Vetek для напівпровідника-це високоякісний, ультраусний графітовий носій, призначений для обробки вафель. Наші перевізники мають чудову продуктивність і можуть добре працювати в суворих умовах, високих температурах та суворих хімічних умовах очищення. Наша продукція широко використовується на багатьох європейських та американських ринках, і ми сподіваємось стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
Надіслати запит 
Опис продукту

Як провідний професійний виробник у цій галузі, напівпровідник Vetek із задоволенням запропонує вам найвищі таблички для травлення PSS, спеціально для напівпровідникової галузі.


Наші пластини для травлення PSS для напівпровідників - це високоспеціалізовані компоненти, які незамінні в процедурах травлення джерела джерела плазми (PSS) в рамках напівпровідникової області виробництва. Ці таблички беруть на себе ключову роль під час процесу травлення. Вони забезпечують стабільну підтримку та забезпечують плавне транспортування напівпровідникових вафель, що має вирішальне значення для точності та якості операції травлення.


Ми щиро запрошуємо вас звернутися до нас за будь -які запити. Ми завжди готові допомогти та надати більш детальну інформацію про наші видатні продукти.




Пластина для травлення PSS для напівпровідникаОсновні особливості:

● Точність дизайну: Пластина -носій розроблена з точними розмірами та плоскою поверхні, щоб забезпечити рівномірне та послідовне травлення по напівпровідникових вафлях. Він забезпечує стабільну та керовану платформу для вафель, що дозволяє отримати точні та надійні результати травлення.

● Опір у плазмі: Пластина -носій має відмінну стійкість до плазми, що використовується в процесі травлення. Це не впливає на реактивні гази та високоенергетична плазма, забезпечуючи тривалий термін служби та послідовну ефективність.

● Теплопровідність: Пластина -носій має високу теплопровідність для ефективного розсіювання тепла, що утворюється в процесі травлення. Це допомагає підтримувати оптимальне контроль температури та запобігає перегріву напівпровідникових вафель.

● Сумісність: Пластина для травлення PSS розроблена таким чином, щоб бути сумісною з різними напівпровідниковими розмірами вафельних виробів, які зазвичай використовуються в галузі, забезпечуючи універсальність та простоту використання в різних виробничих процесах.


Параметр продукту пластини для травлення PSS для напівпровідника

Основні фізичні властивості покриття CVD SIC
Майно Типове значення
Кристалічна структура FCC β -фаза полікристалічна, головним чином (111) орієнтована
SIC щільність покриття 3,21 г/см³
Твердість покриття CVD SIC 2500 Вікерс твердість （500 г навантаження）
Розмір зерна 2 ~ 10 мкм
Хімічна чистота 99,99995%
Теплостійка 640 Дж · кг-1· K-1
Температура сублімації 2700 ℃
Сила згинання 415 MPA RT 4-кратна
Модуль Янга 430 GPA 4PT BEND, 1300 ℃
Теплопровідність 300 Вт · м-1· K-1
Теплове розширення (CTE) 4,5 × 10-6K-1



Це напівпровідник Пластина для травлення PSS для напівпровідникаВиробничий магазин

SiC Graphite substrateCVD TaC coating cover testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment



Огляд напівпровідникового ланцюга епітакси -індустрії:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

Гарячі теги: Пластина для травлення PSS для напівпровідника
Пов'язана категорія
Надіслати запит
Контактна інформація

  • Адреса

    Wangda Road, вулиця Зіян, графство Вуї, місто Цзіньхуа, провінція Чжецзян, Китай

  • Тел

    +86-18069220752

  • Електронна пошта

    anny@veteksemi.com

Щоб отримати запити щодо покриття з карбіду кремнію, покриття з карбіду танталу, спеціального графіту або прайс-листа, залиште нам свою електронну пошту, і ми зв’яжемося протягом 24 годин.
Супутні товари
SIC покритий ICP -носієм ICP
SIC покритий ICP -носієм ICP Дивитись більше >>
SIC ICP травлення
SIC ICP травлення Дивитись більше >>
E-Chuck з покриттям SIC
E-Chuck з покриттям SIC Дивитись більше >>
Кільце фокусування плазми
Кільце фокусування плазми Дивитись більше >>
SIC покритий носієм для травлення
SIC покритий носієм для травлення Дивитись більше >>
Новини Рекомендації
Чотири найпотужніші виробники графіту у світі - Vetek
Чотири найпотужніші виробники графіту у світі - VetekДивитись більше >>
Чому покриття з карбіду танталу (TaC) краще за покриття з карбіду кремнію (SiC) у вирощуванні монокристалів SiC? - Напівпровідник VeTek
Чому покриття з карбіду танталу (TaC) краще за покриття з карбіду кремнію (SiC) у вирощуванні монокристалів SiC? - Напівпровідник VeTekДивитись більше >>
Історія розвитку 3C SiC
Історія розвитку 3C SiCДивитись більше >>
Застосування графітових деталей з покриттям TAC в монокристалічних печах
Застосування графітових деталей з покриттям TAC в монокристалічних печахДивитись більше >>
Ласкаво просимо клієнтів для відвідування покриття/ TAC -покриття Viteksemicon та фабрики процесів епітакси
Ласкаво просимо клієнтів для відвідування покриття/ TAC -покриття Viteksemicon та фабрики процесів епітаксиДивитись більше >>
Дизайн теплового поля для росту монокристалів SIC
Дизайн теплового поля для росту монокристалів SICДивитись більше >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept