QR-код

Про нас
Продукти
Зв'яжіться з нами
Телефон
Факс
+86-579-87223657
Електронна пошта
Адреса
Wangda Road, вулиця Зіян, графство Вуї, місто Цзіньхуа, провінція Чжецзян, Китай
VeTek semiconductor є провідним виробником матеріалів для покриття з карбіду танталу для напівпровідникової промисловості. Наші основні пропозиції продуктів включають деталі з покриттям з карбіду танталу CVD, деталі з покриттям зі спеченого TaC для вирощування кристалів SiC або процесу напівпровідникової епітаксії. Компанія VeTek Semiconductor пройшла стандарт ISO9001 і добре контролює якість. VeTek Semiconductor прагне стати інноватором у галузі покриття з карбіду танталу завдяки постійним дослідженням і розробці ітераційних технологій.
Основною продукцією єНапрямне кільце з покриттям TaC, Трипелюсткове напрямне кільце з покриттям CVD TaC, Напівмісяць із покриттям з карбіду танталу TaC, Планетарний епітаксіальний SiC-покриття CVD TaC, Кільце з покриттям з карбіду танталу, Пористий графіт з покриттям з карбіду танталу, Приймач обертання покриття TaC, Кільце з карбіду танталу, Обертова пластина з покриттям TaC, Пластина з покриттям TaC, Дефлекторне кільце з покриттям TaC, Покриття CVD TaC, Патрон із покриттям TaCтощо, чистота нижче 5 ppm, може задовольнити вимоги замовника.
Графітове покриття TaC створюється шляхом покриття поверхні високочистої графітової підкладки тонким шаром карбіду танталу за допомогою запатентованого процесу хімічного осадження з парової фази (CVD). Перевага показана на зображенні нижче:
Покриття з карбіду танталу (TaC) привернуло увагу завдяки своїй високій температурі плавлення до 3880°C, відмінній механічній міцності, твердості та стійкості до термічних ударів, що робить його привабливою альтернативою процесам епітаксії складних напівпровідників з вищими вимогами до температури. такі як система Aixtron MOCVD і процес епітаксії SiC LPE. Він також має широке застосування в процесі вирощування кристалів SiC методом PVT.
●Температурна стабільність
●Надвисока чистота
●Стійкість до H2, NH3, SiH4,Si
●Стійкість до термозапасу
●Сильна адгезія до графіту
●Конформне покриття покриття
● Розмір до 750 мм в діаметрі (єдиний виробник в Китаї досягає такого розміру)
● Індуктивний нагрівач
● Резистивний нагрівальний елемент
● Тепловий екран
Фізичні властивості покриття TaC | |
Щільність | 14,3 (г/см³) |
Питома випромінювальна здатність | 0.3 |
Коефіцієнт теплового розширення | 6.3 10-6/К |
Твердість (HK) | 2000 HK |
опір | 1×10-5Ом*см |
Термостабільність | <2500 ℃ |
Розмір графіту змінюється | -10~-20 мкм |
Товщина покриття | Типове значення ≥20um (35um±10um) |
елемент | Атомний відсоток | |||
Пт. 1 | Пт. 2 | Пт. 3 | Середній | |
C K | 52.10 | 57.41 | 52.37 | 53.96 |
М | 47.90 | 42.59 | 47.63 | 46.04 |
+86-579-87223657
Wangda Road, вулиця Зіян, графство Вуї, місто Цзіньхуа, провінція Чжецзян, Китай
Copyright © 2024 Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd. Усі права захищені.
Links | Sitemap | RSS | XML | Privacy Policy |