CVD SIC Graphite Cylind

CVD -графітовий циліндр Vetek Semiconductor відіграє важливу роль у напівпровідниковому обладнанні. Зазвичай він використовується як захисне покриття всередині реактора для забезпечення захисту внутрішніх компонентів реактора в умовах високого температури та високого тиску. Цей захисний покрив може ефективно виділити хімічні речовини та високі температури в реакторі, заважаючи їм завдати пошкодження обладнання. У той же час, графітовий циліндр CVD SIC також має відмінну стійкість до зносу та корозії, що дозволяє підтримувати стабільність та довгострокову довговічність у суворих робочих умовах. Використовуючи захисні обкладинки, виготовлені з цього матеріалу, можна покращити продуктивність та надійність напівпровідникових пристроїв, продовжуючи термін служби пристрою, зменшуючи потреби в обслуговуванні та ризик пошкодження.

CVD SIC графітовий циліндр широко використовується в напівпровідниковому обладнанні, що охоплює наступні ключові області:

Обладнання для очищення тепла

Він служить захисним покривом або тепловим щитом у технічному обладнанні теплообробки. Це не тільки захищає внутрішні компоненти від високої температури, але й має відмінну високу температуру.

Реактори хімічної пари (ССЗ)

У реакторах ССЗ він діє як захисне покриття для хімічної реакційної камери. Він ефективно виділяє реакційні речовини і пропонує хорошу резистентність до корозії.

Корозійне середовище

Завдяки видатній корозійній резистентності, CVD SIC графітовим циліндром можна використовувати в хімічно корозійних умовах під час виробництва напівпровідників, таких як середовища з корозійними газами або рідинами.

Напівпровідникове обладнання

Він функціонує як захисні обкладинки або інші компоненти в напівпровідниковому обладнанні зростання. Захищаючи обладнання від високих температур, хімічної корозії та зносу, він забезпечує стабільність обладнання та надійність тривалої терміни.

Характеризується високою стійкістю температури, корозійною стійкістю, відмінними механічними властивостями та хорошою теплопровідністю, CVD SIC графітовим циліндром полегшує більш ефективну теплову дисипацію в напівпровідникових пристроях, тим самим підтримуючи стабільність та продуктивність пристроїв.