Всередині VETEK CNC Precision Machining Workshop: створення основи напівпровідникових компонентів високої чистоти

Зайдіть у майстерню точної обробки з ЧПК VeTek Semiconductor, і ви побачите тиху потужність сучасного виробництва. Автоматизоване обладнання працює в ідеальному ритмі. Високошвидкісні шпинделі, керовані точними програмами ЧПК, працюють узгоджено, оскільки ріжучі інструменти шар за шаром перетворюють холодні сирі заготовки на високоточні компоненти. Кожен допуск суворо контролюється. Кожна деталь ретельно перевіряється. Завдяки числовому керуванню ми створюємо кожну кваліфіковану заготовку, яка згодом обслуговуватиме найвибагливіші напівпровідникові процеси.

1. Точність, яка забезпечує напівпровідники нового покоління

У VeTek Semiconductor обробка з ЧПК — це набагато більше, ніж етап виробництва — це важлива основа нашого основного портфоліо продуктів. Від високочистих графітових підкладок до складних геометрій, наші можливості обробки безпосередньо підтримують виробництво:

•CVD покриття з карбіду кремнію (SiC).графітові токоприймачі та кільця попереднього нагріву

•CVD покриття з карбіду танталу (TaC).відвертні кільця, частини півмісяця та планетарні суцептори

• Твердий SiCкомпоненти та кільця фокусування

• Високочисті графітові деталі термічного поля для епітаксії SiC, MOCVD і росту кристалів

• Спеціальні напівпровідникові технологічні компоненти, сумісні з основними платформами (Aixtron, Veeco, LPE, ASM, Applied Materials)

Ці компоненти вимагають ультратонких допусків на розміри та виняткової цілісності поверхні. Наша майстерня з ЧПК забезпечує обробку кожної графітової заготовки відповідно до точних специфікацій, перш ніж вона отримає високочисті CVD-покриття SiC або TaC — покриття, які постійно досягають рівнів домішок нижче 5 ppm.

2. Наші конкурентні переваги

Що відрізняє VeTek Semiconductor від наших повністю інтегрованих виробничих ланцюжків і глибокого технічного досвіду:

Єдина можливість: Точна обробка з ЧПУ → високотемпературне очищення → CVD покриття SiC/TaC → очищення → суворе тестування (GDMS, SIMS, SEM).

Розширене обладнання та потужність:12+ високоточних виробничих ліній і подвійні науково-дослідні центри, засновані колишнім експертом Китайської академії наук.

Надвисока чистота та надійність:Покриття та матеріали, розроблені для екстремальних температур, корозійних середовищ і нульового забруднення частинками в процесах епітаксії та MOCVD.

Повне налаштування:Ми обробляємо та покриваємо компоненти на основі ваших точних креслень, забезпечуючи ідеальне прилягання до ваших реакторних платформ.

Перевірена система якості: Процеси сертифіковані ISO 9001 із суворим контролем розмірів і чистоти на кожному етапі.

3. Від пустого до критично важливого компонента

Кожна високоефективна токоприймач із SiC-покриттям або кільце з TaC-покриттям починається тут — у нашій майстерні точної обробки з ЧПК. Заготовка з холодного графіту ретельно формується під керівництвом вдосконаленого числового керування, а потім шляхом очищення та покриття перетворюється на компонент, який витримає тисячі технологічних циклів на найсучасніших напівпровідникових фабриках у світі.

У VeTek Semiconductor ми віримо, що справжня точність починається задовго до камери для нанесення покриття. Починається з першого розрізу.

Ознайомтеся з нашим повним асортиментомCVD покриття SiC, CVD TaC покриття, твердий SiC, і розчини графіту високої чистоти приВЕТЕК.

Зв’яжіться з нами сьогодні, щоб обговорити індивідуальні рішення для обробки та покриття для епітаксії, MOCVD або вирощування кристалів.