Напівпровідникова керамічна насадка

Напівпровідникова керамічна насадка відіграє важливу роль уПроцес HDP-CVD, використовується для точного контролю потоку газу та забезпеченняЯкісне осадження плівки. Розпилювач керамічної насадки точно розроблений для забезпечення постійної та контрольованої швидкості потоку газу, мінімізуючи можливу турбулентність, коли газ потрапляє в реакційну камеру.

Технічні характеристики:

1. Матеріальна композиція:

Ветек напівпровідниковий керамічний піщаний насадка, як правило, виготовляється з напівпровідникової кераміки, таких як оксид алюмінію (Al2O3),карбід кремнію (SiC), або оксид цирконію (Zro2), ці матеріали мають чудові властивості:

    • Висока термічна стійкість (може протистояти температурі вище 1000 ℃)

    • стійкість до корозії реактивними газами, що використовуються вПроцеси CVD(наприклад, силан, аміак)

    • стійкість до безперервного впливу плазми.

2. Структурний дизайн:

    • Розмір отвору: отвір керамічної насадки Semiconductor науково розроблено для забезпечення точного контролю потоку газу, який, у свою чергу, впливає на однорідність і товщину плівки.

    • Кути та геометрії: точно розроблені для забезпечення рівномірного розподілу газу через підкладку, мінімізуючи дефекти в осадженому шарі.

У напівпровідниковому промисловості напівпровідникові керамічні насадки відіграють ключову роль насамперед у процесі HDP-CVD. Вони також використовуються для відкладення тонких плівок для виробництва мікроелектроніки, забезпечуючи високоякісні поверхневі покриття, які є рівномірними та без забруднень.

Магазини керамічних насадок VeTeK Semiconductor: