Процес епітаксії SiC

CVD TAC Планетарне епітаксіальний сприйнятник SIC SIC є одним із основних компонентів планетарного реактора MOCVD. Через CVD TAC Планетарне епітаксіальний чутливий епітаксіал, великі дискові орбіти та невеликий диск обертаються, а модель горизонтального потоку поширюється на машини з мультипільними машинами, так що вона має як високоякісну епітаксіальну рівномірність довжини хвилі, так і оптимізацію дефектів єдиної якості епітаксіальної хвилі, і дефект оптимізації одноякісної епітаксиальної хвилі -Chip Machines та переваги витрат на виробничі витрати на багатопідсилювальні машини. Вітек напівпровідник може надати клієнтам високо налаштовану CVD TAC Planetary SIC Epitaxial Hersceptor. Якщо ви також хочете зробити планову піч Mocvd, як Aixstron, приходьте до нас!

Vetek Semiconductor-китайська компанія, яка є виробником світового класу та постачальником дисераптора GAN Epitaxy. Ми працюємо в напівпровідниковому промисловості, таких як кремнієві карбідні покриття та епітакси -чутник GAN. Ми можемо забезпечити вам відмінні товари та сприятливі ціни. Напівпровідник Vetek з нетерпінням чекає стати вашим довгостроковим партнером.

VeTek Semiconductor TaC Coated Wafer Susceptor — це графітовий лоток, покритий карбідом танталу для епітаксійного росту карбіду кремнію для покращення якості та продуктивності пластини. VeTek вибрано через його передову технологію покриття та довговічні рішення, які забезпечують відмінні результати епітаксії SiC і подовжений термін служби чутливого елемента. Чекаємо на ваші подальші запити.

Як провідний виробник TAC -покриття Кільцеві продукти в Китаї, кілець з кістками з покриттям TAC Vetek є важливими компонентами обладнання MOCVD, забезпечуючи точну та стабільну доставку газу під час епітаксіального росту, і є незамінним матеріалом при напівпровідниковому епітаксіальному зростанні. Ласкаво просимо, щоб проконсультуватися з нами.

Vetek Semiconductor - професійний виробник і лідер пористої продукції карбіду Tantalum в Китаї. Пористий карбід Tantalum зазвичай виготовляється методом хімічного осадження пари (CVD), забезпечуючи точний контроль розміру та розподілу пор, і є матеріальним інструментом, присвяченим екстремальним середовищам високої температури. Ласкаво просимо свою подальшу консультацію.

Кільце направляючого крок -покриття Vitek Semiconductor створюється шляхом застосування покриття карбіду Tantalum на графітові деталі за допомогою високодоступної техніки під назвою хімічне осадження пари (CVD). Цей метод добре встановлений і пропонує виняткові властивості покриття. Використовуючи посібник з покриття TAC, термін експлуатації графітових компонентів може бути значно розширений, рух графітових домішок може бути придушений, а монокристалічну якість SIC та AIN можна надійно підтримувати. Ласкаво просимо до розслідування нас.