CVD душова лійка з графітовим покриттям з карбіду кремнію (SiC).

Ключові характеристики

• Надвисока чистота – покриття SiC повністю закриває графіт, тому немає виділення газів або забруднення металом.

• Чудовий розподіл газу – кожна душова головка оброблена для забезпечення рівномірної швидкості газу по всій пластині.

• Чудова стійкість до корозії – CVD SiC не реагує з галогенами чи технологічними залишками. Він служить набагато довше, ніж чистий графіт або кварц.

• Надзвичайні теплові характеристики – покриття точно відповідає температурному розширенню графіту, тому не розтріскується під час швидкого підвищення температури.

• Точне виробництво – ми використовуємо обробку з ЧПУ та власне покриття CVD. Діаметри отворів і шаблони дотримуються жорстких допусків.

Технічні характеристики

Додатки

Ці душові лійки використовуються в:

• Напівпровідникові CVD системи (як виробництво, так і R&D)

• Обладнання PECVD – низькотемпературні діелектрики

• Реактори MOCVD – сполуки III-V, такі як GaN, InP

• Кремнієва епітаксія (Si Epi) – для силових пристроїв і CMOS

• SiC epitaxy – високовольтна силова електроніка

• Фабрики складних напівпровідників

• Удосконалена упаковка (наприклад, нанесення вкладиша TSV)

• Будь-який тонкоплівковий інструмент, якому потрібен нержавіючий газорозподільник високої чистоти

Чому варто обрати VETEK?

• Ми не торгова компанія. Усе – від обробки графіту до остаточного CVD покриття SiC – виконується власними силами. Це означає, що ми контролюємо якість, термін виконання та вартість.

• Повне власне виробництво – жодних сюрпризів щодо аутсорсингу

• Передова технологія покриття – щільний CVD-SiC без отворів

• Індивідуальна інженерна підтримка – надішліть нам креслення душової лійки або просто модель реактора

• Надійний ланцюжок постачання напівпровідників – ми постачаємо заводи та виробники комплектного обладнання протягом багатьох років

• Вам не потрібно щоразу перекваліфіковувати новий дизайн. Ми вже покрили душові лійки для багатьох поширених платформ (AMAT, TEL, LAM, ASM тощо).