Що таке пористий графіт? - VeTek Semiconductor

Пористий графітце сконструйований вуглецевий матеріал, що містить мережу пор у своїй структурі графіту. Його ключові характеристики включають пористість, розподіл пор за розміром, проникність, об'ємну щільність і теплові властивості. У виробництві напівпровідників вибрані пористі графітові компоненти високої чистоти використовуються в системах вирощування кристалів карбіду кремнію (SiC) з фізичним переносом парів (PVT) для підтримки певних функцій газотранспорту та теплового поля. Характеристики матеріалу залежать від сорту графіту, структури пор, чистоти та умов експлуатації.

Пориста структура графіту

Пористий графіт — це продукт з пористою структурою, виготовлений із графіту як основного матеріалу. Його матеріал виготовлений з високочистого графіту. Фізичні параметри VeTek Semiconductor Porous Graphite змінюються залежно від процесу виробництва та конкретного застосування. Нижче наведено загальні фізичні параметри:

Пористий графіт виготовлений з графіту високої чистоти та має чудову електропровідність, теплопровідність, стійкість до високих температур, стійкість до окислення, хімічну стабільність та інші характеристики. Він широко використовується в промисловості обробки напівпровідників.

У процесі обробки напівпровідників пористий графіт широко використовується в наступних аспектах:

У поєднанні з чудовою високотемпературною стійкістю та хімічною стабільністю Porous Graphite, як-от хороша корозійна стійкість до більшості хімічних речовин, таких як кислоти, луги та розчинники, Porous Graphite часто використовується в обладнанні для високотемпературного спікання та термообробки. Наприклад, пористий графіт можна використовувати як футерівку, ізоляційний матеріал або опорний матеріал для високотемпературних печей.

Крім того,

Пористий графітовий компонент для зростання кристалів SiCмає відмінну електропровідність і термічну стабільність, щоб забезпечити рівномірне теплове поле і стабільні електричні властивості. Тому цей продукт часто використовується в процесі дифузії або окислення обробки напівпровідників як джерело дифузії або електродний матеріал.

Пориста структура Porous Graphite може фільтрувати та очищати гази, які використовуються при обробці напівпровідників, зменшувати можливе забруднення частинками та забезпечувати високу чистоту під час обробки. Завдяки пористій структурі та гарній повітропроникності деталі з пористого графіту також можна використовувати як основу та кріплення у системі вакуумної адсорбції для фіксації пластин або інших компонентів шляхом ефективної вакуумної адсорбції.

Регулюючи процес спікання графіту, VeTek Semiconductor моженалаштовувати пористі графітові матеріали з різними розмірами пор і пористістю відповідно до різних вимог застосування.

                                                                                                  Пористий графіт                 Пористий графіт для росту кристалів SiC           Трипелюстковий графітовий тигель

Насправді VeTek Semiconductor займає абсолютну лідируючу позицію на китайському ринку графітових токоприймачів із покриттям sic, графітових тиглів із покриттям tac та ринку графітових лотків із покриттям із карбіду кремнію. VeTek Semiconductor є професійним китайським виробником, постачальником і фабрикою спеціальних графітових виробів, таких якПористий графіт для росту кристалів SiC, Піролітичне карбонове покриття, Склоподібне карбонове покриття, Ізотропний графіт, Силіконізований графітіГрафітовий лист високої чистоти. ми прагнемо надавати передові рішення для різноманітних продуктів спеціального графіту для напівпровідникової промисловості.

Якщо у вас є запитання або вам потрібна додаткова інформація, будь ласка, не соромтеся зв’язатися з нами.

Моб/WhatsAPP: +86-180 6922 0752

Електронна адреса: anny@veteksemi.com