Веб-меню

Пошук продукту

Мова

Продукти

Покриття з карбіду танталу

VeTek semiconductor є провідним виробником матеріалів для покриття з карбіду танталу для напівпровідникової промисловості. Наші основні пропозиції продуктів включають деталі з покриттям з карбіду танталу CVD, деталі з покриттям зі спеченого TaC для вирощування кристалів SiC або процесу напівпровідникової епітаксії. Компанія VeTek Semiconductor пройшла стандарт ISO9001 і добре контролює якість. VeTek Semiconductor прагне стати інноватором у галузі покриття з карбіду танталу завдяки постійним дослідженням і розробці ітераційних технологій.


Основною продукцією єНапрямне кільце з покриттям TaC, Трипелюсткове напрямне кільце з покриттям CVD TaC, Напівмісяць із покриттям з карбіду танталу TaC, Планетарний епітаксіальний SiC-покриття CVD TaC, Кільце з покриттям з карбіду танталу, Пористий графіт з покриттям з карбіду танталу, Приймач обертання покриття TaC, Кільце з карбіду танталу, Обертова пластина з покриттям TaC, Пластина з покриттям TaC, Дефлекторне кільце з покриттям TaC, Покриття CVD TaC, Патрон із покриттям TaCтощо, чистота нижче 5 ppm, може задовольнити вимоги замовника.


Графітове покриття TaC створюється шляхом покриття поверхні високочистої графітової підкладки тонким шаром карбіду танталу за допомогою запатентованого процесу хімічного осадження з парової фази (CVD). Перевага показана на зображенні нижче:


Excellent properties of TaC coating graphite


Покриття з карбіду танталу (TaC) привернуло увагу завдяки своїй високій температурі плавлення до 3880°C, відмінній механічній міцності, твердості та стійкості до термічних ударів, що робить його привабливою альтернативою процесам епітаксії складних напівпровідників з вищими вимогами до температури. такі як система Aixtron MOCVD і процес епітаксії SiC LPE. Він також має широке застосування в процесі вирощування кристалів SiC методом PVT.


Ключові характеристики:

 ●Температурна стабільність

 ●Надвисока чистота

 ●Стійкість до H2, NH3, SiH4,Si

 ●Стійкість до термозапасу

 ●Сильна адгезія до графіту

 ●Конформне покриття покриття

 ● Розмір до 750 мм в діаметрі (єдиний виробник в Китаї досягає такого розміру)


Додатки:

 ●Вафельний носій

 ● Індуктивний нагрівач

 ● Резистивний нагрівальний елемент

 ●Супутниковий диск

 ●Лійка для душу

 ●Направляюче кільце

 ●LED Epi приймач

 ●Інжекторна насадка

 ●Маскувальне кільце

 ● Тепловий екран


Покриття з карбіду танталу (TaC) на мікроскопічному поперечному зрізі:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


Параметр покриття з карбіду танталу VeTek Semiconductor:

Фізичні властивості покриття TaC
Щільність 14,3 (г/см³)
Питома випромінювальна здатність 0.3
Коефіцієнт теплового розширення 6.3 10-6/К
Твердість (HK) 2000 HK
опір 1×10-5Ом*см
Термостабільність <2500 ℃
Розмір графіту змінюється -10~-20 мкм
Товщина покриття Типове значення ≥20um (35um±10um)


Дані EDX покриття TaC：

EDX data of TaC coating


Дані кристалічної структури покриття TaC:

елемент Атомний відсоток
Пт. 1 Пт. 2 Пт. 3 Середній
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
М 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
Пористий графіт з покриттям з карбіду танталу

Пористий графіт з покриттям з карбіду танталу

Пористий графіт з покриттям карбіду Tantalum - це незамінний продукт у процесі обробки напівпровідника, особливо в процесі росту кристалів SIC. Після постійних оновлень інвестицій та технологій на НДДКР та технології, Vitek Semiconductor TAC з пористим графітовим продуктом, що покрита, якість продукції Graphite завоювала високу оцінку європейських та американських клієнтів. Ласкаво просимо до вашої подальшої консультації.
Дивитись більше >> Надіслати запит >>
Планетарний епітаксіальний SiC-покриття CVD TaC

Планетарний епітаксіальний SiC-покриття CVD TaC

CVD TAC Планетарне епітаксіальний сприйнятник SIC SIC є одним із основних компонентів планетарного реактора MOCVD. Через CVD TAC Планетарне епітаксіальний чутливий епітаксіал, великі дискові орбіти та невеликий диск обертаються, а модель горизонтального потоку поширюється на машини з мультипільними машинами, так що вона має як високоякісну епітаксіальну рівномірність довжини хвилі, так і оптимізацію дефектів єдиної якості епітаксіальної хвилі, і дефект оптимізації одноякісної епітаксиальної хвилі -Chip Machines та переваги витрат на виробничі витрати на багатопідсилювальні машини. Вітек напівпровідник може надати клієнтам високо налаштовану CVD TAC Planetary SIC Epitaxial Hersceptor. Якщо ви також хочете зробити планову піч Mocvd, як Aixstron, приходьте до нас!
Дивитись більше >> Надіслати запит >>
Кільце з покриттям TAC

Кільце з покриттям TAC

Як провідний виробник та постачальник кільцевих продуктів з покриттям TAC в Китаї, Vetek Semiconductor зосередив увагу на НДДКР та виробництві різних продуктів з покриттям TAC. Як основні клієнти продукції з покриттям TAC, європейські та американські виробники приділяли високу похвалу нашу продукцію для покриття. Ласкаво просимо до вашої подальшої консультації.
Дивитись більше >> Надіслати запит >>
GAN EPITAXY UNDENTAKER

GAN EPITAXY UNDENTAKER

Vetek Semiconductor-китайська компанія, яка є виробником світового класу та постачальником дисераптора GAN Epitaxy. Ми працюємо в напівпровідниковому промисловості, таких як кремнієві карбідні покриття та епітакси -чутник GAN. Ми можемо забезпечити вам відмінні товари та сприятливі ціни. Напівпровідник Vetek з нетерпінням чекає стати вашим довгостроковим партнером.
Дивитись більше >> Надіслати запит >>
Так з покриттям вафель

Так з покриттям вафель

Ветек напівпровідник TAC з покриттям вафельним підносом - це графітовий лоток, покритий карбідом Tantalum для епітаксіального росту карбіду кремнію для поліпшення якості та продуктивності вафель. Vetek обраний через свою вдосконалену технологію покриття та довговічні рішення, щоб забезпечити відмінні результати епітакси SIC та розширений термін експлуатації дицептора, вітайте свої подальші запити.
Дивитись більше >> Надіслати запит >>
Посібник з покриття TAC

Посібник з покриття TAC

Як провідний виробник TAC -покриття Кільцеві продукти в Китаї, кілець з кістками з покриттям TAC Vetek є важливими компонентами обладнання MOCVD, забезпечуючи точну та стабільну доставку газу під час епітаксіального росту, і є незамінним матеріалом при напівпровідниковому епітаксіальному зростанні. Ласкаво просимо, щоб проконсультуватися з нами.
Дивитись більше >> Надіслати запит >>
Як професіонал Покриття з карбіду танталу виробник та постачальник у Китаї, у нас є власна фабрика. Незалежно від того, чи потрібні вам індивідуальні послуги, щоб задовольнити конкретні потреби вашого регіону або хочете придбати розширені та довговічні Покриття з карбіду танталу, зроблені в Китаї, ви можете залишити нам повідомлення.
Новини Рекомендації
Повне пояснення процесу виготовлення мікросхем (2/2): від вафельної упаковки та тестування
Повне пояснення процесу виготовлення мікросхем (2/2): від вафельної упаковки та тестуванняДивитись більше >>
Що таке градієнт температури теплового поля однокристалічної печі?
Що таке градієнт температури теплового поля однокристалічної печі?Дивитись більше >>
Чому покриттю SiC приділяється стільки уваги? - VeTek Semiconductor
Чому покриттю SiC приділяється стільки уваги? - VeTek SemiconductorДивитись більше >>
Пористий карбід Tantalum: нове покоління матеріалів для росту кристалів SIC
Пористий карбід Tantalum: нове покоління матеріалів для росту кристалів SICДивитись більше >>
Виробництво чіпів: осадження атомного шару (ALD)
Виробництво чіпів: осадження атомного шару (ALD)Дивитись більше >>
Що таке напівпровідниковий процес епітакси?
Що таке напівпровідниковий процес епітакси?Дивитись більше >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept